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China Completes First High-Precision Roundness Reference Device, Reducing Measurement Uncertainty from 20nm to 6nm

中国建成首套高精度圆度基准装置,圆度测量不确定度从20nm降至6nm

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凤凰网科技
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China has officially established its first high-precision roundness reference device, developed by the National Institute of Metrology, reducing roundness measurement uncertainty from 20 nanometers to 6 nanometers and achieving international advanced levels. This fills a national gap in roundness traceability, supporting strategic industries such as aerospace, high-end machine tools, advanced optics, and semiconductor manufacturing.
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IT之家 7 月 7 日消息,据央视新闻昨日报道,我国首套高精度圆度基准装置正式建成。<br> 据介绍,该装置由中国计量科学研究院研制完成,其建成标志着我国在高精度圆度测量领域实现了跨越式发展,整体技术能力跻身国际先进行列。<br> IT之家注:圆度是几何量形位公差体系中的核心基础参数之一,其测量精度直接关系到精密主轴、先进光学元件、半导体芯片等高端制造产品的性能表现和装配质量。<br> 长期以来,我国虽已建立平面度等几何量计量基准,但圆度量值始终缺乏国家级溯源源头,成为制约高端装备自主可控和产业高质量发展的“卡脖子”难题之一。<br> 此次建成的圆度基准装置填补了这一空白,将为我国航空航天、高端机床、先进光学、半导体制造等战略产业提供高可靠、高精度的量值溯源支撑,不仅完善了国家几何量计量体系,也为制造强国、质量强国建设提供了基础性技术保障。<br> 在技术层面,该装置系统集成了多项自主创新技术,成功破解了高准确度圆度评定、主轴误差分离、滤波一致性控制等国际性技术瓶颈。<br> 该装置创新提出了基于高准确度圆度滤波与全效数据利用的圆度计算模型,有效解决了标准半球分离后轮廓重构的稳定性难题;同时,我国自主研发的新型误差分离技术大幅抑制了主轴回转误差,将圆度测量不确定度从 20 纳米降至 6 纳米,测量能力达到国际先进水平。此次突破意味着我国已实现高准确度圆度测量若干核心关键技术的自主可控,打破了国外长期技术垄断。<br> “特别声明:以上作品内容(包括在内的视频、图片或音频)为凤凰网旗下自媒体平台“大风号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储空间服务。<br> Notice: The content above (including the videos, pictures and audios if any) is uploaded and posted by the user of Dafeng Hao, which is a social media platform and merely provides information storage space services.”